****现货大学研究所 正性 负性 电子信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度
****现货中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率
****现货 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀
****现货 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
****现货光电所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定

大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ****现货 附着性好
供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 现货 湿法刻蚀
成份稳定 光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ****现货    
****现货 光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛 ****现货

供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用 稳定现货
现货 中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好 供应
****现货光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀
****现货 研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛 ****现货

****现货 大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 高纵宽比 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT ****现货
供应 光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ 现货 AZ50XT AZ10XT 附着性好
****现货 光电所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
****现货 研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺

****现货大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
****现货中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
****现货光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
****现货研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
****现货光电所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定

****现货大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
****现货中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
****现货光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
****现货光电所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
****现货研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高

****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
****现货中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
****现货光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
****现货光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 *验证
****现货研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高

****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
****现货光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
****现货光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
****现货研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 *验证
****现货中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛

****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
****现货光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
****现货光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
****现货研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 *验证
中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛

****现货光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
****现货厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
****现货光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
****现货光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
****现货大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好